Nanostructured surface fabricated by laser interference lithography to attenuate the reflectivity of microlens arrays

نویسندگان
چکیده

برای دانلود رایگان متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Fabrication and Optical Characterization of Silicon Nanostructure Arrays by Laser Interference Lithography and Metal-Assisted Chemical Etching

In this paper metal-assisted chemical etching has been applied to pattern porous silicon regions and silicon nanohole arrays in submicron period simply by using positive photoresist as a mask layer. In order to define silicon nanostructures, Metal-assisted chemical etching (MaCE) was carried out with silver catalyst. Provided solution (or materiel) in combination with laser interference lithogr...

متن کامل

Low-cost Polymer Fresnel Microlens Array Fabricated by Maskless Lithography

This work presents the fabrication of 8X8 PDMS Fresnel microlens array (MLA) by maskless lithographic system. The FWHM intensity values of each spot present a deviation of 8%. Such a MLA can be applied as Shack-Hartmann wavefront sensor and to enhance the efficiency of detector arrays. OCIS codes: (080.2208) Fabrication, tolerancing; (080.4298) Nonimaging optics

متن کامل

control of the optical properties of nanoparticles by laser fields

در این پایان نامه، درهمتنیدگی بین یک سیستم نقطه کوانتومی دوگانه(مولکول نقطه کوانتومی) و میدان مورد مطالعه قرار گرفته است. از آنتروپی ون نیومن به عنوان ابزاری برای بررسی درهمتنیدگی بین اتم و میدان استفاده شده و تاثیر پارامترهای مختلف، نظیر تونل زنی(که توسط تغییر ولتاژ ایجاد می شود)، شدت میدان و نسبت دو گسیل خودبخودی بر رفتار درجه درهمتنیدگی سیستم بررسی شده اشت.با تغییر هر یک از این پارامترها، در...

15 صفحه اول

fabrication and optical characterization of silicon nanostructure arrays by laser interference lithography and metal-assisted chemical etching

in this paper metal-assisted chemical etching has been applied to pattern porous silicon regions and silicon nanohole arrays in submicron period simply by using positive photoresist as a mask layer. in order to define silicon nanostructures, metal-assisted chemical etching (mace) was carried out with silver catalyst. provided solution (or materiel) in combination with laser interference lithogr...

متن کامل

Au Gratings Fabricated by Interference Lithography for Experimental Study of Localized and Propagating Surface Plasmons

Optical properties of high-frequency Au gratings with a fixed period (296.6 ± 0.5 nm) and a variable modulation depth are studied using measurements of spectral and angular dependence of transmission and reflection of polarized light in order to build the dispersion curves of excited optical modes and to identify their types. It was shown that in gratings with small modulation depth only propag...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of the European Optical Society: Rapid Publications

سال: 2010

ISSN: 1990-2573

DOI: 10.2971/jeos.2010.10006